放开DUV光刻机出口！ASML回应中国市场问题

这次提到的是DUV光刻机出口，并非更先进的EUV光刻机。

10月14日，荷兰ASML首席财务官Roger Dassen就向中国出口光刻机的问题上发表了口头声明。他表示，在一定情况下，向中国出口DUV（深紫外）光刻机无需美国许可。

有人表示，有了光刻机的支持，中国半导体发展将有很大进步。

但也有人评论称，这次中国企业随便购买的只是DUV光刻机，并不是技术含量最高的EUV（极紫光）光刻机。

ASML：DUV出口不受美国限制

当地时间10月14日，半导体巨头、全球光刻机领头企业ASML发布了其2020年第三季度财报，请首席财务官罗杰·达森（Roger Dassen）也接受了视频采访。

当被问及美国的半导体出口禁令对ASML的业务有何种影响时，达森回应称，他们注意到了美方的禁令，也意识到了禁令对中国客户的影响。随后达森表示：“如果要解释一下美国的规定对ASML有什么影响的话，对于的中国客户，我们还是可以直接从荷兰向他们出口DUV光刻机，无需任何出口许可。”

但他随后也补充称，如果相关系统或零件是从美国出口的，那这些设备仍然需要得到美方的许可。

达森表示，ASML将尽最大努力，尽可能为所有客户继续提供服务和支持。

根据公开的财报电话会议录音，ASML首席执行官彼得·韦尼克（Peter Wennink）也在会议上确认了这一点。

韦尼克称，根据当前美国的规定，直接从荷兰向中国出口的DUV光刻机不受影响。

重视中国市场，第二次表态

事实上这是最近AMSL第二次针对中国市场的表态。

在今年9月17日，美国制裁华为禁令生态后的第三天，ASML全球副总裁沈波先生就表态，ASML作为全球半导体行业的合作伙伴，未来ASML将会加快在中国市场的布局。

目前中国是最大的芯片需求国，现在又需要生产大量的先进制程的芯片，这自然就需要用到大量的EUV光刻机。

面对这样一个潜力庞大的市场，AMSL自然不愿放弃。

根据ASML发布的财报，2020年第三季度ASML光刻机净销售额达31亿欧元，其中中国大陆市场的营收占到21%。

今年5月，ASML与无锡高新区签署了战略合作协议，在无锡高新区内扩建升级ASML光刻设备技术服务（无锡）基地。

而此前，ASML已在北京、上海、深圳、无锡等地开设分公司,其中深圳更是其在亚洲最大的软件研发中心。

不是EUV，顶尖光刻机仍是问题

值得一提的是，达森和韦尼克都强调的是DUV光刻机出口，并未提到更先进的EUV（极紫外）光刻机。

而彭博社也在14日的报道中强调，DUV的规则不适用于EUV光刻机。ASML必须获得许可证才有可能向中国企业出口EUV光刻机。但荷兰政府已经暂缓了EUV光刻机出口许可，一直到现在都没有批准。

EUV光刻机和DUV光刻机有什么不同？

根据曝光源的不同，光刻机分为EUV型（极深紫外线）、DUV型（深紫外线）。从制程范围来看，DUV可以制造28nm-7nm之间的各种芯片，但7nm以下的先进制程必须用到EUV光刻机。

如果没有EUV光刻机，那个国产芯片制程只能止步7nm。

而ASML是目前全球唯一能够量产EUV光刻机的厂商。

据了解，EUV光刻机不需要多重曝光，一次就能曝出想要的精细图形，没有超纯水和晶圆接触，在产品生产周期、光学邻近效应矫正的复杂程度、工艺控制、良率等方面都有明显优势。

就是这么一台设备，一台需要10万个零配件，价值高达7亿人民币，而且一年产量只有几十台，且有限供应给三星、台积电等大客户。此前中芯国际2018年5月才下单给ASML。

国内厂商想购买一台，太难。

中科院入局，国内厂商突破

事实上，ASML最担心的还是国内厂商实现技术突破，从而导致ASML损失国内市场。

据悉，虽然目前国产光刻机还无法与ASML的先进光刻机相比，但国内厂商一直都在突破，预计在2021年就能够上市28nm的国产光刻机。

另外，中科院也已经正式宣布，要集中力量解决主要问题，像光刻机等。

9月16日，中科院院长白春礼在中国科学院 “率先行动”计划第一阶段实施进展发布会上表示，“率先行动”计划第二阶段要把美国 “卡脖子”的清单变成科研任务清单进行布局，集中全院力量聚焦国家最关注的重大领域攻关，这其中就包括了光刻机。

除中科院外，华为等厂商也加速研发突破光刻机等技术，仅华为就计划在2年内投入80亿美元，要在光刻机技术方面实现突破。一旦国产光刻机实现突破，ASML在DUV光刻机上价格优势也不再有。

尾声

从ASML角度来看，出售DUV光刻机一方面为了打开国内的市场，另一方面也为了延缓国产光刻机的研发进度。

但在美国制裁的背景下，整个行业指望设备完全国产化也是不现实的事情，所以购买ASML的DUV光刻机解决燃眉之急应该是绝大多数企业的首选。

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