你对中微半导体有限公司宣布已经掌握5纳米的半导体技术有什么看法？

中微取得的成就无疑是令人兴奋的，但也并不能夸大其词，不符合客观实际。

2017年3月，中微半导体设备公司宣布将在当年年底正式敲定5nm刻蚀机。在半导体设备行业被欧美日霸占的情况下，一家中国公司能有这样的产品是非常了不起的。中微半导体现在的董事长兼CEO尹志尧之前在美国硅谷一直从事半导体工作，在美国应用材料（全球第一大半导体设备企业）中就担任过总公司副总裁一职。2004年，尹志尧从美国回到中国，同年在上海创办中微半导体。

关于5nm刻蚀机，给大家简单介绍一下。在过去九年中，中微半导体先后承担并圆满完成了65-45纳米、32-22纳米、22-14纳米共三项刻蚀机的研发和产业化任务（国家02重大专项任务）。这使得国内刻蚀机技术基本与国外同行先进水平保持了同步。中微半导体现在研发的是全球最先进的5纳米等离子（介质）刻蚀机。在整个芯片制造工艺过程中，刻蚀工艺只是其中一环。也就是说，这仅仅是5nm工艺技术一个组成部分，且不是最重要的组成部分。5nm工艺节点最重要的设备应该是光刻机。光刻机负责拍照片把集成电路的影像印在硅晶元上，蚀刻机则负责把光刻机的影像腐蚀出来变成电路。因此，网络上的许多报道是夸大了中微的成就。2017年4月，中微半导体发布了一则声明：“正是中微的客户——国际一流的集成电路制造厂商，推动了芯片技术和生产一代又一代的进步。中微作为设备公司，是向他们提供可加工先进器件的设备，协助他们实现新一代器件的开发和生产。中微不可能脱离他们的5纳米技术开发，而独立地掌握5纳米技术。”这是一个比较客观的声明。

综上所述，中微取得的成就无疑是令人兴奋的，但也并不能夸大其词，不符合客观实际。因为，论半导体工艺，英特尔、台积电和三星依然是世界上最领先的三家公司。

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